Publicaciones

• Article dans une revue

MMICs time-domain electrical physical simulator adapted to the parallel computation

A. El Moussati, Jean-Claude de Jaeger, Christophe Dalle

International Journal of Numerical Modelling: Electronic Networks, Devices and Fields, 2009, 22, pp.279-296. ⟨10.1002/jnm.706⟩. ⟨hal-00473652⟩

• Article dans une revue

Selective area growth of GaN-based structures by molecular beam epitaxy on micrometer and nanometer size patterns

Yvon Cordier, Fabrice Semond, Jean-Christophe Moreno, Éric Frayssinet, Brahim Benbakhti, Z. Cao, Sébastien Chenot, Lee Nguyen, Olivier Tottereau, Ali Soltani, Karine Blary

In this work, we describe the main features of selective area growth (SAG) of GaN by molecular beam epitaxy (MBE) using ammonia. Different schemes such as growth into micrometer and nanometer size windows in Si3N4 dielectric masks and mesa structures etched on GaN or Silicon substrate are studied.

Materials Science in Semiconductor Processing, 2009, 12, pp.16-20. ⟨10.1016/j.mssp.2009.07.003⟩. ⟨hal-00473644⟩

• Article dans une revue

Use of the circuit approach to solve large EMC problems

S. Leman, B. Demoulin, O. Maurice, M. Cauterman, P. Hoffmann

Comptes Rendus. Physique, 2009, 10, pp.70-82. ⟨10.1016/j.crhy.2009.01.006⟩. ⟨hal-00473696⟩

• Autre publication scientifique

Réalisation et caractérisation d'un laser DFB bi-mode pour applications radio sur fibre

Stéphane Ginestar

2009. ⟨hal-00572793⟩

• Autre publication scientifique

Contribution à la caractérisation et à la modélisation des canaux MIMO

Abdelmottaleb Nasr

2009. ⟨hal-00573106⟩

• Autre publication scientifique

Conception, fabrication et caractérisation de sources d'électronébulisation micro et nanofluidiques en technologie silicium

Cédric Descatoire

2009. ⟨hal-00572794⟩

• Article dans une revue

Molecular dynamics simulations of the solid phase epitaxy of Si : growth mechanism and orientation effects, simulations en dynamique moléculaire de l'épitaxie en phase solide du silicium: mécanismes de croissance et influence de l'orientation cristalline

E. Lampin, Christophe Krzeminski

The solid phase epitaxy of an amorphous layer on crystalline silicon is studied by means of molecular dynamics. Three stacks of 5120, 4928, and 5184 atoms respectively oriented along the [100], [110], and [111] directions are annealed with the Tersoff interatomic potential. The regrowth proceeds...

Journal of Applied Physics, 2009, 106, pp.063519. ⟨10.1063/1.3211972⟩. ⟨hal-00471990v2⟩

• Communication dans un congrès

Estimation séquentielle et conjointe du bruit de phase, de l'offset en fréquence et des symboles émis dans les systèmes OFDM

F. Septier, Y. Delignon, Atika Rivenq, C. Garnier

Atelier Traitement et Analyse de l'Information : Méthodes et Applications, TAIMA 2009, 2009, Hammamet, Tunisie. ⟨hal-00810741⟩

• Communication dans un congrès

Analyse du comportement HF d'une sous-station d'alimentation ferroviaire par homothétie physique et géométrique

H. Ouaddi, S. Baranowski, G. Nottet, B. Demoulin, L. Kone

TELECOM'2009 & 6èmes Journées Franco-Maghrébines des Micro-ondes et leurs Applications, 2009, Maroc. pp.C1-2, 1-4. ⟨hal-00573505⟩

• Communication dans un congrès

Comparing InSb, InAs, and InSb/InAs nanowire MOSFETs

Hans Nilsson, P. Caroff, E. Lind, C. Thelander, L.E. Wernersson

67th Device Research Conference, 2009, State College, PA, United States. ⟨hal-00574849⟩