Publicaciones

• Chapitre d'ouvrage

Chapitre 5 : Micro-actionneurs en alliage à mémoire de forme

Nicolas Chaillet, L. Buchaillot, Joël Abadie, I. Roch, Christian Lexcellent

Microactionneurs électromagnétiques, électrostatiques et électroactifs, HERMES Science Publications, pp. 179-219, 2002, Collection EGEM (Electronique, Génie Electrique, Micro-technologies). ⟨hal-00092477⟩

• Communication dans un congrès

Reliability of packaging MEMS in shock environment : crack and stiction modeling

O. Millet, D. Collard, L. Buchaillot

2002, pp.696-703. ⟨hal-00148789⟩

• Article dans une revue

Vacuum and cryogenic station for Micro-Electro-Mechanical Systems probing and testing

Bernard Legrand, E. Quévy, B. Stefanelli, D. Collard, L. Buchaillot

Review of Scientific Instruments, 2002, 73, pp.4393-4395. ⟨hal-00148782⟩

• Communication dans un congrès

Evaluation de la dégradation des ouvrages en béton par ondes ultrasonores haute fréquence

S. Ould Naffa, M. Goueygou, Bogdan Piwakowski, F. Buyle-Bodin

Actes du 6ème Congrès Français d'Acoustique, CFA 2002, 2002, Lille, France. ⟨hal-00250221⟩

• Communication dans un congrès

Solid-state 8 GHz transient signal digitizer characterization

A. Ghis, P. Ouvrier-Buffet, N. Rolland, A. Benlarbi-Delai, P.A. Rolland, D. Glay, D. Jaeger

2002, pp.1673-1676. ⟨hal-00148329⟩

• Communication dans un congrès

Emission basse fréquence par interaction non-linéaire d'ondes ultrasonores

Philippe Pernod, Y. Pylnov, Vladimir Preobrazhensky

Actes du 6ème Congrès Français d'Acoustique, CFA 2002, 2002, Lille, France. ⟨hal-00148704⟩

• Article dans une revue

Characterization of phosphorus and boron heavily doped LPCVD polysilicon films in the temperature range 293-373K

Mohamed Boutchich, Katir Ziouche, Pascale Godts, Didier Leclercq

In this paper, thermal properties of phosphorus and boron-doped low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) polysilicon layers with regard to sensor applications are presented. Thermoelectric coefficient and relative resistance variations of polysilicon are investigated within the temperature...

IEEE Electron Device Letters, 2002, 23 (3), pp.139-141. ⟨10.1109/55.988817⟩. ⟨hal-00148729⟩

• Autre publication scientifique

Microcapteurs de rayonnement infrarouge en technologie silicium

Mohamed Boutchich

2002. ⟨hal-00148731⟩

• Communication dans un congrès

Matching of ultrasonic transducer : interest of the glue layer

Dorothée Debavelaere-Callens, C. Bruneel, Jamal Assaad

2002, pp.2408. ⟨hal-00149910⟩

• Communication dans un congrès

Monte Carlo study of electron transport in InAs HEMT structures

Olivier Bonno, Jean-Luc Thobel, François Dessenne, Hervé Boutry

Proceedings of the 13th Workshop on Physical Simulation of Semiconductor Devices, 2002, Leeds, United Kingdom. ⟨hal-00148625⟩