Publications

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  • Communication dans un congrès

Novel microfabricated nano-ESI interfaces to be integrated onto a microsystem

S. Arscott, S. Le Gac, C. Rolando

2004, pp.515-518. ⟨hal-00141032⟩

  • Communication dans un congrès

La résine photolithographiable SU-8 aspects chimiques et technologiques de la fabrication de microsystèmes

K. Chuda, X. Coqueret, Julien Carlier, S. Arscott, V. Thomy, C. Druon, P. Tabourier, J.C. Camart

Polymérisations sous Rayonnement, PolyRay, 2004, Villeneuve d Ascq, France. ⟨hal-00140980⟩

  • Article dans une revue

NDE of two-layered mortar samples using high-frequency Rayleigh waves

M. Goueygou, Bogdan Piwakowski, A. Fnine, M. Kaczmarek, F. Buyle-Bodin

Ultrasonics, 2004, 42, pp.889-895. ⟨hal-00140727⟩

  • Chapitre d'ouvrage

Nanostructures : theory and modelling

C. Delerue, M. Lannoo

Nanoscience and technology, Springer, pp.1-297, 2004. ⟨hal-00131741⟩

  • Article dans une revue

Noise modeling in fully depleted SOI MOSFETs

G. Pailloncy, B. Iniguez, Gilles Dambrine, J.P. Raskin, Francois Danneville

Solid-State Electronics, 2004, 48, pp.813-825. ⟨hal-00133880⟩

  • Communication dans un congrès

Bruit haute fréquence dans les transistors MOS sur SOI : méthodes de caractérisations et de modélisations

G. Pailloncy

WORKSHOP Laboratoire Commun IEMN/ST Microelectronics, 2004, Crolles, France. ⟨hal-00133898⟩

  • Communication dans un congrès

High-frequency extension of the transmission-line theory for an open line

A. Cozza, F. Canavero, B. Demoulin

12ème Colloque International et Exposition sur la Compatibilité Electromagnétique, CEM'04, 2004, Toulouse, France. pp.165-170. ⟨hal-00509722⟩

  • Communication dans un congrès

Novel 2D Interfaces for Nanoelectrospray-Mass Spectrometry

S. Arscott

Nanotech2004, 2004, Boston, United States. ⟨hal-02347767⟩

  • Communication dans un congrès

Formation of nano-domains in alkyltrichlorosilane self-assembled monolayers deposited on silicon : applications to molecular electronics

S. Desbief, L. Patrone, D. Goguenheim, D. Vuillaume

Ultimate Lithography and Nanodevice Engineering, 2004, Agelonde, France. ⟨hal-00140740⟩