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  • Communication dans un congrès

Présentation du nouvel équipement de gravure XeF2 "Xactix X4B

Jean Houpin

Présentation du nouvel équipement de gravure XeF2 "Xactix X4B". Journées Renatech Litho Gravure, Jun 2026, Grenoble, France. ⟨hal-05695693⟩

  • Poster de conférence

Co-optimizing Custom Instructions RISC-V and LLM Specialized Accelerator for Attention-Based Edge AI

Joaquin Cornejo, Filipe Pouget, Camille Leroux, Christophe Jego, Andreia Cathelin, Benoit Larras, Sylvain Clerc, Antoine Frappé

RISC-V Summit Europe, Jun 2026, Bologna, Italy. ⟨hal-05763277⟩