Publications

• Autre publication scientifique

Approche statistique en traitement du signal : application à l'imagerie radar et aux systèmes de télécommunication sans fils

Y. Delignon

2002. ⟨hal-00148626⟩

• Communication dans un congrès

Génération et détection d'impulsions électriques picosecondes à l'aide de patchs de GaAs et d'AlGaAs

L. Desplanque, Jean-Francois Lampin, F. Mollot

9èmes Journées Nationales Microélectronique et Optoélectronique, JNMO 2002, 2002, Saint-Aygulf, France. ⟨hal-00148673⟩

• Autre publication scientifique

Dispositifs intégrés pour la transposition de fréquences dans la bande térahertz

Thibaut David

2002. ⟨hal-00148632⟩

• Article dans une revue

Wave channeling in compact multiport optical waveguide photonic crystal based devices

S. Fasquel, X. Melique, O. Vanbésien, D. Lippens

Superlattices and Microstructures, 2002, 32, pp.145-151. ⟨hal-00148644⟩

• Communication dans un congrès

GDR Nanoélectronique : tendances - perspectives

O. Vanbésien

9èmes Journées Nationales Microélectronique et Optoélectronique, JNMO 2002, 2002, St Aygulf, France. ⟨hal-00148656⟩

• Article dans une revue

Characterisation of micromachining processes during KrF excimer laser ablation of TiNi shape memory alloy thin sheets and films

S.T. Davies, E.C. Havey, H. Jin, J.P. Hayes, M.K. Ghantasala, I. Roch, L. Buchaillot

Smart Materials and Structures, 2002, 11, pp.708-714. ⟨hal-00148762⟩

• Communication dans un congrès

Room temperature passivation of the silicon surface by chemisorption of an organic monolayer

S. Kar, D. Vuillaume

202nd ElectroChemical Society Meeting, 2002, Salt Lake City, UT, United States. ⟨hal-00148726⟩

• Article dans une revue

Adhesive forces investigation on a silicon tip by contact mode atomic force microscope

Vincent Agache, Bernard Legrand, Dominique Collard, Lionel Buchaillot

An atomic force microscope operating in contact mode is used in this letter for probing the adhesive forces at the apex of a silicon nanotip with typical radius smaller than 15 nm, fabricated using a combination of high-resolution electron beam lithography and plasma dry etching. The amplitude of…

Applied Physics Letters, 2002, 81, pp.2623-2625. ⟨10.1063/1.1508806⟩. ⟨hal-00148768⟩

• Communication dans un congrès

Influence of the hole injection layer in thienylene phenylene light emitting diodes

K. Lmimouni, M. Berliocchi, C. Dufour, D. Vuillaume, F. Tran Van, J. Grazulevicius, C. Chevrot, J.P. Lere-Porte, S. Wakim

INF Meeting, 2002, Bari, Italy. ⟨hal-00148713⟩

• Article dans une revue

Reactive ion beam etching effects on maskless PZT properties

Caroline Soyer, Eric Cattan, Denis Remiens

Ion beam etching of sputtered Pb(Zr 0.54 ,Ti 0.46 )O 3 has been performed using pure Ar gas. The etch rate and selectivity ratios between PZT and masks as a function of the process parameters (current density, acceleration voltage, gas pressure) has been investigated. We have evaluated the PZT…

Integrated Ferroelectrics, 2002, 48, pp.221-229. ⟨10.1080/10584580215465⟩. ⟨hal-00149624⟩