Publications

• Autre publication scientifique

Développement de résonateurs électromécaniques en technologie Silicon On Nothing, à détection capacitive et amplifiée par transistor MOS, en vue d'une co-intégration permettant d'adresser une application de référence de temps

Cédric Durand

2009. ⟨hal-00572786⟩

• Autre publication scientifique

Composants MEMS pour l'aéronautique : application au contrôle actif d'écoulements

Leticia Gimeno-Monge

2009. ⟨hal-00572770⟩

• Article dans une revue

Improved characterization methology for MOSFETs up to 220 GHz

N. Waldhoff, C. Andrei, D. Gloria, Sylvie Lepilliet, Francois Danneville, Gilles Dambrine

IEEE Transactions on Microwave Theory and Techniques, 2009, 57, pp.1237-1243. ⟨10.1109/TMTT.2009.2017359⟩. ⟨hal-00471808⟩

• Autre publication scientifique

Caractérisations et modélisations des technologies CMOS et BiCMOS de dernières générations jusque 220 GHz

Nicolas Waldhoff

2009. ⟨hal-00572777⟩

• Communication dans un congrès

Potentialités de la technologie CMOS 65nm sur substrat SOI haute résistivité pour les applications millimétriques : amplificateur faible bruit et antenne intégrés sur un même substrat

R. Pilard, D. Gloria, Christian Person, François Le Pennec, F. Gianesello, N. Waldhoff

16èmes Journées Nationales Microondes, JNM 2009, 2009, France. pp.2E-1, 1-4. ⟨hal-00480319⟩

• Article dans une revue

Experimental study on sound and damaged mortar: Variation of ultrasonic parameters with porosity

Zoubeir Lafhaj, Marc Goueygou

The relationship between porosity and ultrasonic parameters of mortar was studied. In order to enhance the sensitivity of the ultrasonic wave to microstructural changes, a high frequency range, 0.6–1.2 MHz, was chosen. The material investigated consists of four mortar mixtures with water/cement…

Construction and Building Materials, 2009, 23 (2), pp.953-958. ⟨10.1016/j.conbuildmat.2008.05.012⟩. ⟨hal-00354607⟩

• Article dans une revue

Orientation control of LaNiO3 thin films by RF magnetron sputtering with different oxygen partial pressure

L.H. Yang, G.S. Wang, C.L. Mao, Y.Y. Zhang, R.H. Liang, Caroline Soyer, Denis Remiens, X.L. Dong

Journal of Crystal Growth, 2009, 311, pp.4241-4246. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2009.05.025⟩. ⟨hal-00473732⟩

• Article dans une revue

A reduction modeling method to assess the electromagnetic emission of multiconductor transmission lines

Guillaume Andrieu, X. Bunlon, J.P. Parmantier, Alain Reineix, L. Kone, B. Demoulin

Comptes Rendus. Physique, 2009, 10, pp.83-90. ⟨10.1016/j.crhy.2008.12.002⟩. ⟨hal-00473697⟩

• Article dans une revue

Self-assembled monolayers for electrode fabrication and efficient threshold voltage control of organic transistors

C. Celle, C. Suspene, J.P. Simonato, S. Lenfant, M. Ternisien, D. Vuillaume

Organic Electronics, 2009, 10, pp.119-126. ⟨10.1016/j.orgel.2008.10.007⟩. ⟨hal-00472766⟩

• Article dans une revue

Al and Ti/Al contacts on n-GaN

L. Dobos, B. Pecz, L. Toth, Z.J. Horvath, Z.E. Horvath, E. Horvath, A. Toth, B. Beaumont, Z. Bougrioua

Vacuum, 2009, 84, pp.228-230. ⟨10.1016/j.vacuum.2009.04.022⟩. ⟨hal-00472682⟩